一、产品名称：钛靶材、钛靶
牌号：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7
厂家：巨伟钛业
主要形式：圆靶、板靶、管靶
钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块)
密度：4.51或4.50
圆靶：
60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)
板靶：60/80/120(W)x6/8/12(T)×519/525/620(L)&60-800(W)x6-40(T)x600-2000(L)
管靶：0.1-30.0mm(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000mm
用途：钛靶材用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。
二、产品名称：702锆靶、705高纯锆靶、锆块、锆多弧靶
分类：
形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
锆靶主要应用于微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材。
三、产品名称：高纯铬靶、 铬靶材、 铬靶块、 铬板靶
可定制靶材规格：
圆靶（直径φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）
板靶(长<500mm，宽<500mm，高<25mm）
管靶（外直径φ3.0mm-φ300mm,内直径φ2.0mm-280mm）
材料纯度：>99.995%
金属杂质含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Cu/Co/Ni/Ti/Mn/Si/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm
平整度（TIR）:<20μm
局部平整度（STIR）:<10μm
翘曲度（Warp）:<50μm
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