半导体用钛靶

产品名称：钛靶材、钛靶牌号：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 厂家：巨伟钛业主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块)密度：4.51或4.50圆靶：60/6... 【详情】

产品名称：钛靶材、高纯钛圆靶 牌号：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1 纯度：99.9%-99.99% 规格：Φ100×40、Φ100×45、Φ95&... 【详情】

产品名称：TC4钛方块，钛合金锻件执行标准：GB/T16598、ASTM B381、AMS4928等主要牌号： TC4 (GR5)规格：(50~1500) x (50~1200) x L <4000mm质量管理：ISO9001:2015,AS9100C宇航标准质... 【详情】

产品名称：钛靶材、高纯钛圆靶 牌号：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1 纯度：99.9%-99.99% 规格：&Phi;100&times;40、&Phi;100&times;45、&Phi;95&... 【详情】

产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶：Ø30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：长度：200-500mm宽度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直径：30-200mm厚度：5-20mm长度：500-2000mm 4.可... 【详情】

产品名称：钛管靶牌号：TA1/GR1，TA2/GR2主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块) 密度：4.51或4.50牌号：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 圆靶：60/... 【详情】

1、产品名称：钛合金锻件、钛块2、执行标准：GB∕3621-2007标准：GB∕3621-2007钛及钛合金方块牌号供应状态规格厚度mm宽度mm长度mmTA1，TA2，TA9，TA10，TC1，TC2，TC4退火状态（M）＜50＜1500＜400050-... 【详情】

产品名称：TA1(GR1)钛靶块主要用途：钛溅射靶应用于装饰和功能 镀膜工业、平面显示工业、光数据存储工业 （光盘工业）光通讯工业、玻璃镀膜（建筑 玻璃和汽车玻璃）工业等行业。执行标... 【详情】

产品名称：钛靶材，高纯钛靶牌号：TA0，TA1，TA2/GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：钛靶材应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻... 【详情】