溅射钛靶材在IT产业与玻璃镀膜等领域的应用

溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

1、信息存储产业

随着IT产业的不断发展，世界对记录介质的需求量越来越大，记录介质用靶材研究与生产成为一大热点。在信息存储产业中，使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘等。制造这些数据存储产品，需要使用具有特殊结晶性与特殊成分的高品质靶材，常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀有金属、介质材料等。

2、集成电路产业

集成电路用钛靶材在全球靶材市场占较大份额，其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等。其中薄膜电阻器是薄膜混合集成电路中用量最多的元件，而电阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

3、平面显示器产业

平面显示器包括：(1) 液晶显示(LCD) ； (2) 等离子体显示器(PDP) ； (3) 场致发光显示器(E-L) ； (4)场发射显示器(FED) 。目前， 在平面显示器市场中以液晶显示为主，广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器到高清晰电视。目前，平面显示器的薄膜多采用溅射成形。溅射用靶材主要有In₂O₃、SnO₂、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。

4、溅射靶材在其他领域中的应用

1）大面积玻璃镀膜

磁控溅射是目前制备幕墙玻璃的最好的方法，但射频电源，溅射靶的材料和制作价格都十分昂贵，磁控溅射的成本是比较高的。

玻璃镀膜采用的靶材：

A）纯金属。如金，银，钽，钛，铜，铬，镍，锡，硅。

B）金属合金。如钢锡、钴铬，镍铬，不锈钢，特殊

C）电导和绝缘氧化物。如ITO， SiO₂。

镀膜过程：将惰性气体注入真空室，在电场中被电离后产生带正电荷的离子和自由电子。正离子被吸收至装在负电位，阴极顶面的靶上。气体、离子将靶材表面上的原子碰出来，使这些原子凝聚在玻璃基片上。采用磁场捕集自由电子可得到高的溅射率，被捕集的自由电子周而复始地产生高离子密度，从而得到较高的膜层沉积速率。磁控增强阴极的溅射率较常规二极溅射高5至10倍，内装有水冷却回路保证均匀地降低靶材的温度。纯金属和合金在惰性气体的气氛中溅射；纯金属靶可在反应性气体的气氛中溅射。

2）汽车后视镜镀膜

汽车后视镜主要用靶材：Cr、A 1、SnO， (反应性) 、TiO₂， 通常的后视镜是采用蒸发镀铝工艺， 由于铝膜反射率较高，约87%，吸收很小，因此反射光很耀眼。而采用磁控溅射法镀制特殊膜系，反射率比铝膜稍低且在可见光范围内对红色光有一定的吸收，给予镜子一种诱人的“雾蓝色”，其反射光显得非常柔和清晰。

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